利用精密導軌刻劃中階梯光柵的直線度誤差補償方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610261026.0 申請日 -
公開（公告）號 CN105806263B 公開（公告）日 2018-05-22
申請公布號 CN105806263B 申請公布日 2018-05-22
分類號 G01B11/27 分類 測量；測試;
發(fā)明人 黃元申;董成成;盛斌;孫樂;倪爭技;周紅艷;張大偉 申請（專利權）人 昆山上理工光電信息應用技術研究院有限公司
代理機構 上海申匯專利代理有限公司 代理人 上海理工大學;昆山上理工光電信息應用技術研究院有限公司
地址 200093 上海市楊浦區(qū)軍工路516號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種利用精密導軌刻劃中階梯光柵的直線度誤差補償方法，涉及光學器件技術領域，所解決的是無法利用精密導軌刻劃中階梯光柵的技術問題。該方法先測量出精密導軌的直線度累積誤差數據，再根據測得的數據繪制出精密導軌直線度累積誤差曲線，再根據精密導軌直線度累積誤差曲線建立一個一次補償方程；然后再根據一次補償方程，測量以一次補償函數為步進值的精密導軌所刻劃出的中階梯光柵的衍射波前數據，并根據測得的數據繪制出該中階梯光柵的衍射波前曲線；然后再根據中階梯光柵的衍射波前曲線，建立一個二次補償方程；然后采用以二次補償函數為步進值的精密導軌刻劃中階梯光柵成品。本發(fā)明提供的方法，刻劃出的中階梯光柵具有較好的衍射波面。