化學(xué)機械拋光多區(qū)壓力在線控制算法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201610139592.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN105773397B | 公開(公告)日 | 2017-09-29 |
| 申請公布號 | CN105773397B | 申請公布日 | 2017-09-29 |
| 分類號 | B24B37/005(2012.01)I;B24B49/16(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 李弘愷;田芳馨;吳云龍;林達義;王同慶;李昆;路新春 | 申請(專利權(quán))人 | 天府清源控股有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 天津華海清科機電科技有限公司;清華大學(xué) |
| 地址 | 300350 天津市津南區(qū)海河科技園區(qū)聚興道9號,8號樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提出一種化學(xué)機械拋光多區(qū)壓力在線控制算法,包括以下步驟:分別獲取拋光頭的各壓力分區(qū)的零點偏移量;根據(jù)拋光頭的各壓力分區(qū)的零點偏移量,分別對CMP拋光頭系統(tǒng)的各路氣壓傳感器的測量值進行修正,并將修正后的測量值作為各路氣壓傳感器的最終輸出值;計算各路氣壓傳感器的最終輸出值與對應(yīng)壓力分區(qū)的預(yù)設(shè)壓力值之間的偏差量;根據(jù)偏差量實時計算CMP拋光頭系統(tǒng)的相應(yīng)電氣比例閥的控制量;根據(jù)控制量對相應(yīng)電氣比例閥的開度進行控制。本發(fā)明的控制算法簡便有效,方便調(diào)節(jié),同時具有較強的適應(yīng)能力。 |





