發(fā)光二極管的制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111398381.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114156373A | 公開(公告)日 | 2022-03-08 |
| 申請公布號 | CN114156373A | 申請公布日 | 2022-03-08 |
| 分類號 | H01L33/00(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 郭濱剛;李州;徐華畢;陳嘉婷 | 申請(專利權)人 | 深圳市光科全息技術有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳中細軟知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 王志強 |
| 地址 | 518055廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道松坪山社區(qū)高新北六道27號蘭光科技大樓C505 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種發(fā)光二極管的制備方法,包括如下步驟:提供GaN襯底;通過掩膜法結(jié)合微區(qū)域元素擴散摻雜技術,在GaN襯底內(nèi)摻雜元素以形成沿著依次連接的p?GaN層、量子肼層和n?GaN層;在GaN襯底上形成間隔設置的第一導電層和第二導電層,第一導電層與p?GaN層電連接,第二導電層與n?GaN層電連接;在第一導電層上設置第一電極,在第二導電層上設置第二電極。這種發(fā)光二極管的制備方法在GaN襯底內(nèi)摻雜元素以形成沿著GaN襯底的平面方向依次連接的p?GaN層、量子肼層和n?GaN層。這種發(fā)光二極管的制備方法通過摻雜的方式形成P?N結(jié),從而無需外延生長設備。與傳統(tǒng)方法相比,這種發(fā)光二極管的制備方法降低了生產(chǎn)成本。 |





