發(fā)光二極管及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111384504.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114156381A | 公開(公告)日 | 2022-03-08 |
| 申請公布號 | CN114156381A | 申請公布日 | 2022-03-08 |
| 分類號 | H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 郭濱剛;李州;徐華畢;陳嘉婷 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市光科全息技術(shù)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳中細軟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王志強 |
| 地址 | 518055廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道松坪山社區(qū)高新北六道27號蘭光科技大樓C505 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種發(fā)光二極管及其制備方法,發(fā)光二極管的制備方法,包括如下步驟:在襯底上分別沉積p型材料和n型材料,形成p型材料沉積層和n型材料沉積層,p型材料沉積層和n型材料沉積層部分重疊,第一次擴散后,接著沉積導(dǎo)電材料,形成導(dǎo)電材料層,第二次擴散后,設(shè)置第一電極和第二電極。這種發(fā)光二極管的制備方法可以用于納米尺寸的發(fā)光二極管的加工制造,并且與傳統(tǒng)方法相比,減少了工藝流程步驟,只需要簡單的沉積工藝配合擴散技術(shù),從而無需外延生長設(shè)備。與傳統(tǒng)方法相比,這種發(fā)光二極管的制備方法用于納米尺寸的發(fā)光二極管的加工制造時,降低了生產(chǎn)成本。 |





