一種黑磷單晶片的制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010189798.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113493929A | 公開(公告)日 | 2021-10-12 |
| 申請公布號 | CN113493929A | 申請公布日 | 2021-10-12 |
| 分類號 | C30B29/02(2006.01)I;C30B25/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 喻學鋒;喻彬璐;王佳宏 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市中科墨磷科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518111廣東省深圳市龍崗區(qū)平湖街道富康路6號寶能智創(chuàng)谷B棟6層602-4 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開一種黑磷單晶片的制備方法,該方法涉及大尺寸二維單晶材料生長方面。制備方法是將磷源、催化劑按照一定質(zhì)量比例加入密封反應器中,再進行燒結(jié),最終得到大尺寸黑磷單晶片。本方法獲得的黑磷單晶片水平尺寸可達厘米級,片狀結(jié)構(gòu)完整性高,且成功實現(xiàn)單晶片之間分散成核生長,不互相粘連,能夠獲得高質(zhì)量無損單晶黑磷單晶片,有利于下游應用。 |





