一種生長大尺寸碳化硅單晶的熱場結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201721400309.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN207435586U | 公開(公告)日 | 2018-06-01 |
| 申請公布號 | CN207435586U | 申請公布日 | 2018-06-01 |
| 分類號 | C30B29/36;C30B35/00 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 左洪波;楊鑫宏;李鐵;袁帥 | 申請(專利權(quán))人 | 龍江銀行股份有限公司哈爾濱開發(fā)區(qū)支行 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)西大直街357號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型提供了一種生長大尺寸碳化硅單晶的熱場結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)整體由坩堝、坩堝蓋、籽晶桿、上部保溫層結(jié)構(gòu)、下部保溫層結(jié)構(gòu)、側(cè)面保溫層結(jié)構(gòu)以及感應(yīng)線圈組成。坩堝分為筒狀無底結(jié)構(gòu)和坩堝托兩個部分,筒狀無底結(jié)構(gòu)放置于坩堝托上部,筒狀無底結(jié)構(gòu)為高純石墨材料,坩堝托為耐高溫絕緣材料;籽晶桿下端為籽晶托盤結(jié)構(gòu),可隨升華過程中固體原料高度的降低而移動;側(cè)面保溫層結(jié)構(gòu)外部的感應(yīng)線圈結(jié)構(gòu)可由上向下移動,以便保證晶體的生長界面與原料之間的合理間距。本實用新型熱場結(jié)構(gòu)降低了晶體開裂的幾率,同時有效降低晶體內(nèi)部的微管、應(yīng)力等缺陷,實現(xiàn)大尺寸、半絕緣的碳化硅單晶的生長。 |





