一種提高射頻電感品質(zhì)因數(shù)的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210121684.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114447224A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-05-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114447224A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-06 |
| 分類號(hào) | H01L49/02（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 謝旭平;盧煜旻;朱欣恩 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海矽杰微電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 程開(kāi)生 |
| 地址 | 201800上海市嘉定區(qū)葉城路1288號(hào)6幢J461室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種提高射頻電感品質(zhì)因數(shù)的方法，包括步驟S1：根據(jù)硅襯底工藝從而選定襯底層；步驟S2：在襯底層的一側(cè)設(shè)置金屬層，并且根據(jù)需求設(shè)置金屬層中的金屬結(jié)構(gòu)的材質(zhì)、金屬結(jié)構(gòu)的數(shù)量和介質(zhì)結(jié)構(gòu)的材質(zhì)。本發(fā)明公開(kāi)的一種提高射頻電感品質(zhì)因數(shù)的方法，其通過(guò)金屬層和襯底層進(jìn)行設(shè)置，并且根據(jù)需求設(shè)定金屬層的材質(zhì)和數(shù)量以及設(shè)定襯底層的厚度，以減薄襯底層的厚度從而提高片上射頻電感Q值。 |
