薄膜處理系統(tǒng)和方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010485971.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113766759A 公開（公告）日 2021-12-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN113766759A 申請(qǐng)公布日 2021-12-07
分類號(hào) H05K3/10（2006.01）I;H05K3/26（2006.01）I 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 周小紅;基亮亮;劉麟躍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 維業(yè)達(dá)科技（江蘇）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州簡(jiǎn)理知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 朱亦倩
地址 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種薄膜處理系統(tǒng)和方法，所述薄膜處理系統(tǒng)包括：第一上漿裝置，在薄膜帶的第一表面上涂布導(dǎo)電漿料；第一填刮裝置，將所述導(dǎo)電漿料填刮至第一圖案的凹槽內(nèi)；第一裱干裝置，對(duì)填充于第一圖案的凹槽內(nèi)所述導(dǎo)電漿料進(jìn)行干化；第一拋光裝置，對(duì)經(jīng)過(guò)第一裱干裝置的薄膜帶的第一表面進(jìn)行拋光；第二上漿裝置，在薄膜帶的第二表面上涂布導(dǎo)電漿料；第二填刮裝置，將所述導(dǎo)電漿料填刮至第二圖案的凹槽內(nèi)；第二裱干裝置，對(duì)填充于第二圖案的凹槽內(nèi)所述導(dǎo)電漿料進(jìn)行干化；第二拋光裝置，對(duì)經(jīng)過(guò)第二裱干裝置的薄膜帶的第二表面進(jìn)行拋光。這樣可以在一個(gè)處理流程中，實(shí)現(xiàn)對(duì)所述薄膜帶的雙面進(jìn)行上漿、填刮、裱干和拋光處理，無(wú)需中斷，生產(chǎn)效率高。