薄膜處理系統(tǒng)和方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010485986.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113766735A | 公開(公告)日 | 2021-12-07 |
| 申請公布號 | CN113766735A | 申請公布日 | 2021-12-07 |
| 分類號 | H05K3/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術; |
| 發(fā)明人 | 周小紅;基亮亮;劉麟躍 | 申請(專利權)人 | 維業(yè)達科技(江蘇)有限公司 |
| 代理機構 | 蘇州簡理知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 朱亦倩 |
| 地址 | 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種薄膜處理系統(tǒng),其包括:第一上膠裝置,其被配置的在薄膜帶的第一表面上形成第一膠層;形成第一膠層后的薄膜帶經(jīng)由第一主動輥被驅動的向前傳送,第一主動輥輥面壓印在第一膠層上形成重復排布的第一圖案,第一圖案包括第一對位標識;第二上膠裝置在來自第一主動輥方向的薄膜帶的第二表面上形成第二膠層;形成第二膠層后的薄膜帶經(jīng)由第二主動輥被驅動的向前傳送,第二主動輥輥面壓印在第二膠層上形成重復排布的第二圖案,第二圖案包括第二對位標識;對位檢測裝置,其檢測第一對位標識和第二對位標識的對位偏差;控制器基于對位檢測裝置得到的對位偏差調(diào)控第一主動輥和第二主動輥的轉速,進而使得對位偏差收斂于預定偏差閾值范圍。 |





