半導體電子致冷裝置專用蒸發(fā)腔及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN200510012534.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN100344918C | 公開(公告)日 | 2007-10-24 |
| 申請公布號 | CN100344918C | 申請公布日 | 2007-10-24 |
| 分類號 | F25B21/02(2006.01);F28D15/02(2006.01) | 分類 | 制冷或冷卻;加熱和制冷的聯(lián)合系統(tǒng);熱泵系統(tǒng);冰的制造或儲存;氣體的液化或固化; |
| 發(fā)明人 | 王雙玲 | 申請(專利權(quán))人 | 河北信息產(chǎn)業(yè)投資集團有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 石家莊科誠專利事務所 | 代理人 | 王雙玲;鹿泉吉威電器有限責任公司 |
| 地址 | 050011河北省石家莊市范西路18號5棟1單元501號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明屬于半導體電子致冷及傳熱領(lǐng)域,特別是指一種與半導體電子致冷裝置配套使用的蒸發(fā)腔及其制備方法。包括與熱管兩端連通的密閉蒸發(fā)腔,蒸發(fā)腔為一內(nèi)部開設(shè)有閉合管道或毛細微隙的實體結(jié)構(gòu),閉合管道或毛細微隙上開設(shè)有開口,該開口與熱管在蒸發(fā)腔表面的開口連通。蒸發(fā)腔的制作材料選用高導熱系數(shù)的有色金屬,選用擠出、壓鑄、機加、澆鑄工藝成型。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的蒸發(fā)腔的結(jié)構(gòu)強度差,使蒸發(fā)腔的貼合面在工作壓力較大的情況下易變形,進而增加貼合面的接觸熱阻導致傳熱效率低;制作工藝復雜,傳熱效率低,密封性差等技術(shù)缺陷,具有蒸發(fā)腔整體結(jié)構(gòu)強度高,不易變形,制造成本低;導熱面積大,產(chǎn)品密封性好,性能穩(wěn)定等優(yōu)點。 |





