一種高純硫酸的連續(xù)生產方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202011586083.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112279220B | 公開(公告)日 | 2021-03-23 |
| 申請公布號 | CN112279220B | 申請公布日 | 2021-03-23 |
| 分類號 | C01B17/90 | 分類 | 無機化學; |
| 發(fā)明人 | 王濤;王簫;趙繼舟;張雪梅;徐念;徐剛;徐浩;劉松 | 申請(專利權)人 | 蘇州香榭軒表面工程技術咨詢有限公司 |
| 代理機構 | 蘇州創(chuàng)元專利商標事務所有限公司 | 代理人 | 汪青;向亞蘭 |
| 地址 | 215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)郭巷街道尹豐路39號1幢4層408室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種高純硫酸的連續(xù)生產方法,包括依次進行的發(fā)煙硫酸的解析工序、三氧化硫的精制工序、三氧化硫的吸收工序以及真空等離子體脫二氧化硫工序,通過解析獲得二氧化硫含量低于0.4%的三氧化硫,通過精制使其中單項金屬陽離子含量低于5ppt、二氧化硫低于20ppm;在脫二氧化硫工序中,采用裝有填料并配備等離子激發(fā)裝置的脫氣塔,將硫酸自上而下通過脫氣塔,使硫酸在填料表面形成降膜,同時自下而上通入氧氣和使脫氣塔內形成氧?二氧化硫等離子體,最終獲得高純硫酸。本發(fā)明生產效率高,能耗低,污染物排放少、工藝穩(wěn)定性和安全性好,產品質量穩(wěn)定,產品品質好,可用于高集成度芯片的清洗和刻蝕。 |





