一種增強(qiáng)光刻圖形分辨率的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010638024.5 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111856889A 公開(公告)日 2020-10-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN111856889A 申請(qǐng)公布日 2020-10-30
分類號(hào) G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 許箭;袁華;耿文練;孫小俠 申請(qǐng)(專利權(quán))人 儒芯微電子材料(上海)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海劍秋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 儒芯微電子材料(上海)有限公司
地址 201206上海市浦東新區(qū)川橋路1295號(hào)2幢305室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種增強(qiáng)光刻圖形分辨率的方法,其包括在襯底上依次形成第一膠層和第二膠層;通過(guò)光刻曝光工藝在所述第一膠層上形成曝光區(qū)和非曝光區(qū);采用第一溶劑去除所述曝光區(qū)和所述第二膠層的部分區(qū)域,或者先采用第二溶劑去除所述曝光區(qū),再采用第三溶劑去除所述第二膠層的部分區(qū)域,從而在所述第一膠層形成第一圖案,在所述第二膠層形成第二圖案,所述第二圖案是在所述第一圖案基礎(chǔ)上縮進(jìn)后的圖案;采用第四溶劑去除所述非曝光區(qū)。??