晶圓級(jí)封裝方法及晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201911416996.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN111162012B | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
| 申請公布號(hào) | CN111162012B | 申請公布日 | 2022-03-22 |
| 分類號(hào) | H01L21/50(2006.01)I;H01L23/04(2006.01)I;H01L23/10(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 何旭;劉堯;施林波 | 申請(專利權(quán))人 | 中芯集成電路(寧波)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京思創(chuàng)大成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張立君 |
| 地址 | 315803浙江省寧波市北侖區(qū)小港街道安居路335號(hào)3幢、4幢、5幢 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提出了的一種晶圓級(jí)封裝方法及晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),方法包括:提供器件晶圓,器件晶圓具有器件區(qū),器件區(qū)包括有效功能區(qū)和包圍有效功能區(qū)的外圍區(qū);在器件晶圓的外圍區(qū)形成支撐層;提供蓋帽晶圓,蓋帽晶圓具有有效區(qū)和無效區(qū);對(duì)蓋帽晶圓進(jìn)行第一處理,在有效區(qū)形成蓋帽層,使得有效區(qū)的表面高于無效區(qū)表面;將器件晶圓與蓋帽晶圓鍵合,使得有效區(qū)與器件區(qū)相對(duì),使得支撐層和蓋帽層在有效功能區(qū)上形成空腔。能夠有效保證蓋帽層的強(qiáng)度并改善空腔結(jié)構(gòu),以及改善封裝工藝過程中的晶圓翹曲問題,并降低成本。 |





