一種提高硅片鍵合力的方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202011615431.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112670170A | 公開(公告)日 | 2021-04-16 |
| 申請公布號 | CN112670170A | 申請公布日 | 2021-04-16 |
| 分類號 | H01L21/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 劉佳晶;丁正建;王宣歡;于樂;張凱;方小磊 | 申請(專利權(quán))人 | 長春長光圓辰微電子技術(shù)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 長春中科長光知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 高一明;郭婷 |
| 地址 | 130000 吉林省長春市經(jīng)開區(qū)營口路18號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種提高硅片鍵合力的方法,其特征在于,通過等離子化學氣相沉積,在其中一片硅片上生長二氧化硅薄膜;將兩片硅片在常溫常壓下進行鍵合并退火。解決了兩片硅片在常溫常壓下鍵合強度小的問題,并且改善了硅片本身的使用局限性,拓展了可用的硅片范圍,提高了鍵合硅片的鍵合強度,保證了產(chǎn)品的成品率和質(zhì)量。 |





