在垂直方向上調(diào)節(jié)傳輸線阻抗的結(jié)構(gòu)及方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811028865.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN109121290B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109121290B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-07 |
| 分類(lèi)號(hào) | H05K1/11(2006.01)I | 分類(lèi) | - |
| 發(fā)明人 | 孫全輝;商俊強(qiáng);馬建旭 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 光梓信息科技（上海）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專(zhuān)利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 余明偉 |
| 地址 | 201203上海市浦東新區(qū)中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)亮秀路112號(hào)B座703A室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種在垂直方向上調(diào)節(jié)傳輸線阻抗的結(jié)構(gòu)及方法，包括：位于兩個(gè)平行平面的第一金屬層、第二金屬層，以及連接于第一金屬層及第二金屬層之間的第一過(guò)孔；其中，第一過(guò)孔包括至少兩個(gè)并聯(lián)設(shè)置的過(guò)孔；且第一金屬層及第二金屬層的面積均大于與之連接的各過(guò)孔的截面積之和。調(diào)節(jié)金屬層的面積以實(shí)現(xiàn)對(duì)過(guò)孔區(qū)域容抗的控制，調(diào)節(jié)過(guò)孔的數(shù)量及連接關(guān)系以實(shí)現(xiàn)對(duì)過(guò)孔區(qū)域感抗的控制，使得過(guò)孔的特性阻抗與信號(hào)傳輸線的特性阻抗匹配。本發(fā)明采用精確的阻抗控制方式，使得信號(hào)在更寬頻的范圍內(nèi)都能保持阻抗的一致性，對(duì)于超高速更高階的信號(hào)傳輸有更小的反射，插入損耗更均勻，能滿足光通信200G，400G以及800G的芯片封裝和信號(hào)傳輸?shù)脑O(shè)計(jì)要求。?? |
