晶片清洗裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201620401745.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN205595313U 公開(kāi)（公告）日 2016-09-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN205595313U 申請(qǐng)公布日 2016-09-21
分類(lèi)號(hào) H01L21/67(2006.01)I 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 朱寧;劉增偉;王培培 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 元鴻（山東）光電材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)寧眾城專(zhuān)利事務(wù)所 代理人 杜言壘
地址 272000 山東省濟(jì)寧市高新區(qū)聯(lián)華路8號(hào)（信息產(chǎn)業(yè)園內(nèi))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 晶片清洗裝置，包括機(jī)架，設(shè)置在機(jī)架上的上支撐板和下支撐板，在上支撐板和下支撐板之間設(shè)置有晶片載具，在下支撐板的中部具有一軸接驅(qū)動(dòng)電機(jī)的中間轉(zhuǎn)軸，在上支撐板上設(shè)置有上滾刷和上噴頭，驅(qū)動(dòng)上滾刷旋轉(zhuǎn)的滾刷電機(jī)固定在上支撐板上，上噴頭位于上支撐板的另一端，與上噴頭相連接的噴淋管與供液管連接，在下支撐板上設(shè)置有下滾刷和下噴頭，在機(jī)架的下支撐板上設(shè)置有排液管，所述排液管與供液管連接，在所述排液管上還設(shè)置有過(guò)濾器；本實(shí)用新型通過(guò)噴頭噴灑清洗液及滾刷的刷洗，以實(shí)現(xiàn)對(duì)晶片的清潔，在所述排液管上還設(shè)置有過(guò)濾器。使用過(guò)的清洗液經(jīng)過(guò)濾后可以重新利用，有利于節(jié)約企業(yè)成本。