多層硅基電容器電極連接結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201220517257.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN202905470U | 公開(公告)日 | 2013-04-24 |
| 申請公布號 | CN202905470U | 申請公布日 | 2013-04-24 |
| 分類號 | H01G4/30(2006.01)I;H01G4/002(2006.01)I;H01G4/005(2006.01)I;H01G4/232(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 雷鳴;唐劍平;陳杰;陳立軍 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫納能科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 無錫納能科技有限公司;無錫中微晶園電子有限公司 |
| 地址 | 214072 江蘇省無錫市濱湖區(qū)蠡園開發(fā)區(qū)滴翠路100號530大廈2號樓2003室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種多層硅基電容器電極連接結(jié)構(gòu),屬于高密度硅基電容器的技術(shù)領(lǐng)域。按照本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案,所述多層硅基電容器電極連接結(jié)構(gòu),包括襯底;所述襯底內(nèi)設(shè)置若干槽型的面積擴(kuò)張區(qū)域;在所述襯底的面積擴(kuò)張區(qū)域內(nèi)設(shè)置若干內(nèi)部電極層;所述內(nèi)部電極層包括奇數(shù)內(nèi)部電極層及與所述奇數(shù)內(nèi)部電極層交替分布的偶數(shù)內(nèi)部電極層,所述偶數(shù)內(nèi)部電極層與奇數(shù)內(nèi)部電極層間設(shè)置介質(zhì)層;襯底的上表面上設(shè)置互連電極層,所述互連電極層包括用于與偶數(shù)內(nèi)部電極層電連接的偶數(shù)互連電極及用于與奇數(shù)內(nèi)部電極層電連接的奇數(shù)互連電極,所述偶數(shù)互連電極與奇數(shù)互連電極間絕緣隔離。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊,減少工藝所需光刻次數(shù),降低制作成本。 |





