一種用于傳感器的中遠(yuǎn)紅外濾光片及制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011204009.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112162343A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-01-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112162343A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-01 |
| 分類號(hào) | G02B5/20(2006.01)I;G01J5/08(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 劉敏;劉輝;章旭;吳臨紅;徐鋒;路富亮;葉永洋 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江西晶創(chuàng)科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 鷹潭市智埠專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 江西水晶光電有限公司;江西晶創(chuàng)科技有限公司 |
| 地址 | 335000江西省鷹潭市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)和諧路7號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種用于傳感器的中遠(yuǎn)紅外濾光片及其制備方法，包括基板、第一膜堆和第二膜堆，所述第一膜堆沉積在基板上表面，所述第二膜堆沉積在基板下表面，膜系設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)為G|0.5HL0.5H|^L Air；其中G為雙拋片單晶硅基板，H表示為一個(gè)λ/4光學(xué)厚度的高折射率材料層,L表示為一個(gè)λ/4光學(xué)厚度的低折射率材料層，“^”可以為奇數(shù)或偶數(shù)，Air為空氣，所述膜系設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)通過(guò)相互交替疊合的高折射率材料層H為Ge和低折射率材料層為ZnS鍍制而成，本發(fā)明通過(guò)以單晶硅為基板進(jìn)行雙面鍍膜堆，對(duì)波長(zhǎng)0.4μm?5μm范圍內(nèi)的紅外光進(jìn)行截止，5.5μm?14μm波段范圍內(nèi)紅外進(jìn)行透過(guò)的Longpass Filters。?? |
