一種折射率可調(diào)的AlN薄膜的制備設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202121409192.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN215517601U 公開(kāi)（公告）日 2022-01-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN215517601U 申請(qǐng)公布日 2022-01-14
分類號(hào) C23C14/06（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐云俊;王昱翔;周虹玲;周東修 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江艾微普科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王大國(guó)
地址 314400浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)雙聯(lián)路129號(hào)14幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種折射率可調(diào)的AlN薄膜的制備設(shè)備，設(shè)備包括工藝腔體，所述工藝腔體上設(shè)置有工藝氣體進(jìn)口和真空吸口，工藝氣體進(jìn)口連接有氮?dú)夤艿篮蜌鍤夤艿?，本?shí)用新型可以通過(guò)精確調(diào)控反應(yīng)濺射中工藝氣體的氮?dú)獾暮?，從而?duì)氮化鋁（AlN）的折射率進(jìn)行調(diào)控，以達(dá)到設(shè)計(jì)的需求。