書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法、裝置、電子設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110231385.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112905102A 公開（公告）日 2021-06-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN112905102A 申請(qǐng)公布日 2021-06-04
分類號(hào) G06F3/0488 分類 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 朱玉榮;劉洪獻(xiàn);賈少杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安徽文香科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京三聚陽光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 馬永芬
地址 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)榮華南路15號(hào)院2號(hào)樓11層1101室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及電子設(shè)備的筆跡書寫技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法、裝置、電子設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。其中，該方法包括：獲取書寫軌跡，采集書寫軌跡的多個(gè)書寫觸控點(diǎn)對(duì)應(yīng)的特征數(shù)據(jù)，其中，特征數(shù)據(jù)包括觸控時(shí)間、觸控壓力、觸控面積以及觸控位置；基于特征數(shù)據(jù)，計(jì)算書寫觸控點(diǎn)對(duì)應(yīng)的軌跡寬度，以及生成與軌跡寬度對(duì)應(yīng)的書寫子軌跡；基于書寫子軌跡以及書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的觸控關(guān)鍵點(diǎn)，確定與書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡；按照書寫子軌跡以及填充軌跡，生成目標(biāo)筆鋒。通過實(shí)施本發(fā)明，實(shí)現(xiàn)了書寫軌跡不依賴于線條寬度，能夠模擬用戶在真實(shí)書寫過程中的書寫筆鋒，使得書寫軌跡更加接近真實(shí)筆跡。