一種無機(jī)物基底表面改性的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911125082.1 申請日 -
公開（公告）號 CN110724908A 公開（公告）日 2020-01-24
申請公布號 CN110724908A 申請公布日 2020-01-24
分類號 C23C14/12;C23C14/02;C23C14/24 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孟尚君;芮祥新;李建恒 申請（專利權(quán)）人 合肥安德科銘半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 寧波鄞州中致力專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 合肥安德科銘半導(dǎo)體科技有限公司
地址 230088 安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道106號明珠產(chǎn)業(yè)園3號樓5層E區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種無機(jī)物基底表面改性的方法，包括依次進(jìn)行的清洗過程和鍍膜過程；所述清洗過程包括采用腔體內(nèi)等離子體清除無機(jī)物基底表面粘附的有機(jī)物和/或無機(jī)物并激活表面，所述鍍膜過程包括采用分子層沉積方式沉積單層改性有機(jī)物分子以實現(xiàn)無機(jī)物基底表面改性。本發(fā)明以氣相表面清理和有機(jī)薄膜沉積的方法取代原有的浸泡法，有利于達(dá)到安全、高效并合理降低排放、減小對環(huán)境傷害的目標(biāo)。