一種光刻機(jī)匹配方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210267076.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114660904A | 公開（公告）日 | 2022-06-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114660904A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-24 |
| 分類號(hào) | G03F7/20（2006.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 王成瑾;張生睿 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號(hào)院12號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及光刻機(jī)匹配方法，包括步驟：獲取預(yù)設(shè)光刻圖案，每個(gè)預(yù)設(shè)光刻圖案中分別預(yù)設(shè)有X個(gè)關(guān)鍵位置，X為正整數(shù)；在目標(biāo)光刻機(jī)上根據(jù)光刻OPC模型分別獲取每個(gè)預(yù)設(shè)光刻圖案的X個(gè)關(guān)鍵位置對(duì)應(yīng)的目標(biāo)關(guān)鍵尺寸；以目標(biāo)光刻機(jī)為標(biāo)準(zhǔn)對(duì)待調(diào)光刻機(jī)進(jìn)行OPC模型擬合，獲取待調(diào)光刻機(jī)上每個(gè)預(yù)設(shè)光刻圖案中X個(gè)關(guān)鍵位置對(duì)應(yīng)的待調(diào)關(guān)鍵尺寸，計(jì)算待調(diào)關(guān)鍵尺寸與目標(biāo)關(guān)鍵尺寸的差值；基于每個(gè)待調(diào)關(guān)鍵尺寸對(duì)每種光刻機(jī)可調(diào)參數(shù)的靈敏度建立靈敏度矩陣；根據(jù)靈敏度矩陣，建立總評(píng)價(jià)函數(shù)；根據(jù)總評(píng)價(jià)函數(shù)，調(diào)整待調(diào)光刻機(jī)的參數(shù)以調(diào)整待測(cè)關(guān)鍵尺寸與目標(biāo)關(guān)鍵尺寸匹配。 |
