缺陷分類(lèi)方法和裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011510556.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114723647A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114723647A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
| 分類(lèi)號(hào) | G06T7/00（2017.01）I;G06K9/62（2022.01）I;G06V10/764（2022.01）I;G06V10/774（2022.01）I | 分類(lèi) | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 劉成成;韓春營(yíng);俞宗強(qiáng);李強(qiáng);馬衛(wèi)民 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京市鼎立東審知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 101102北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號(hào)院12號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)涉及一種缺陷分類(lèi)方法和裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)，其中方法包括：讀取當(dāng)前待進(jìn)行缺陷分類(lèi)的缺陷圖像，參考圖像和缺陷位置；根據(jù)缺陷圖像和參考圖像得到差別圖像，并由差別圖像中提取出特定特征；其中，特定特征對(duì)應(yīng)當(dāng)前待進(jìn)行缺陷分類(lèi)的缺陷類(lèi)型；將提取出的特定特征輸入至已訓(xùn)練好的分類(lèi)器中，由分類(lèi)器根據(jù)特定特征對(duì)缺陷圖像進(jìn)行缺陷分類(lèi)。其通過(guò)在缺陷分類(lèi)時(shí)，由差別圖像中提取與缺陷類(lèi)型相對(duì)應(yīng)的特定特征，并基于所提取出的特定特征進(jìn)行相應(yīng)的缺陷分類(lèi)，實(shí)現(xiàn)了缺陷類(lèi)型的準(zhǔn)確區(qū)分，從而能夠準(zhǔn)確地進(jìn)行缺陷原因分析，進(jìn)而改善良率，提高生產(chǎn)。 |
