一種優(yōu)化掩模版圖的方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710351038.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN108931883A | 公開(kāi)(公告)日 | 2018-12-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108931883A | 申請(qǐng)公布日 | 2018-12-04 |
| 分類號(hào) | G03F1/38 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 施偉杰;高澎錚 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 東方晶源微電子科技(北京)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 東方晶源微電子科技(北京)有限公司;深圳晶源信息技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號(hào)院12號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種優(yōu)化掩模版圖的方法,包括步驟S1:提供已布局的芯片設(shè)計(jì)圖形的掩模版圖,掩模版圖包括第一主圖形以及布設(shè)在第一主圖形周圍的多個(gè)第一亞分辨率輔助圖形,還包括第二主圖形以及布設(shè)在第二主圖形周圍的多個(gè)第二亞分辨率輔助圖形,所述第一亞分辨率輔助圖形和第二亞分辨率輔助圖形定義一沖突區(qū)域;步驟S2:在掩模版圖上截取所述沖突區(qū)域,并獲取該沖突區(qū)域的透光率分布灰度圖,根據(jù)透光率分布灰度圖的灰度值統(tǒng)計(jì)量大小為該沖突區(qū)域內(nèi)的亞分辨率輔助圖形設(shè)定優(yōu)先級(jí);步驟S3:去除優(yōu)先級(jí)低的亞分辨率輔助圖形,獲取優(yōu)化后的掩模版圖。本發(fā)明可以有效的補(bǔ)充主圖形周圍的空間頻率。 |





