一種優(yōu)化掩模版圖的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710351038.7 申請日 -
公開（公告）號 CN108931883B 公開（公告）日 2022-06-21
申請公布號 CN108931883B 申請公布日 2022-06-21
分類號 G03F1/38 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 施偉杰;高澎錚 申請（專利權(quán)）人 東方晶源微電子科技（北京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 藺顯俊;梁琴琴
地址 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號院12號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種優(yōu)化掩模版圖的方法，包括步驟S1：提供已布局的芯片設(shè)計(jì)圖形的掩模版圖，掩模版圖包括第一主圖形以及布設(shè)在第一主圖形周圍的多個第一亞分辨率輔助圖形，還包括第二主圖形以及布設(shè)在第二主圖形周圍的多個第二亞分辨率輔助圖形，所述第一亞分辨率輔助圖形和第二亞分辨率輔助圖形定義一沖突區(qū)域；步驟S2：在掩模版圖上截取所述沖突區(qū)域，并獲取該沖突區(qū)域的透光率分布灰度圖，根據(jù)透光率分布灰度圖的灰度值統(tǒng)計(jì)量大小為該沖突區(qū)域內(nèi)的亞分辨率輔助圖形設(shè)定優(yōu)先級；步驟S3：去除優(yōu)先級低的亞分辨率輔助圖形，獲取優(yōu)化后的掩模版圖。本發(fā)明可以有效的補(bǔ)充主圖形周圍的空間頻率。