一種解決掩模版著色邊界沖突的方法、裝置和計算機(jī)設(shè)備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210260536.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114638189A | 公開(公告)日 | 2022-06-17 |
| 申請公布號 | CN114638189A | 申請公布日 | 2022-06-17 |
| 分類號 | G06F30/392(2020.01)I;G06T11/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
| 發(fā)明人 | 陳運(yùn);張生睿 | 申請(專利權(quán))人 | 東方晶源微電子科技(北京)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號院12號樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種解決著色邊界沖突的方法、裝置及計算機(jī)設(shè)備,包括以下步驟:S0:提供初始掩模版圖;S1:將初始掩模版圖劃分成多個分塊,分塊內(nèi)包含多個子單元,且每個分塊內(nèi)包含初始子單元和關(guān)鍵子單元;S2:選擇初始掩模版圖預(yù)定區(qū)域作為初始分塊集合,所述初始分塊集合包括至少一個分塊,并對所述初始分塊集合內(nèi)的每個分塊的子單元通過預(yù)設(shè)的著色函數(shù)進(jìn)行著色,得到著色后的初始分塊集合;S3:通過所述著色函數(shù)以及著色后的所述初始分塊集合中每個分塊的所述關(guān)鍵子單元對其他分塊進(jìn)行著色,得到著色掩模圖形。本發(fā)明提供的方法提高了解決著色邊界沖突問題的效率。 |





