一種硅片激光與酸液結合制絨工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201711057483.9 申請日 -
公開（公告）號 CN109755098B 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN109755098B 申請公布日 2021-08-10
分類號 H01L21/02;H01L21/268;C30B33/10;C30B33/04 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李亞哲;黃志煥;徐長坡;陳澄;梁效峰;楊玉聰;王曉捧;王宏宇;王鵬 申請（專利權）人 TCL環(huán)鑫半導體（天津）有限公司
代理機構 天津諾德知識產權代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 欒志超
地址 300380 天津市西青區(qū)華苑產業(yè)區(qū)（環(huán)外）海泰東路12號A座二層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種硅片激光與酸液結合制絨工藝，包括對激光制絨后的硅片進行酸性溶液制絨。本發(fā)明的有益效果是對擴散后的硅片進行激光制絨，在光滑的硅片表面形成凹凸不平的熔融多晶硅，提高硅片表面的粗糙度，且采用激光制絨，制絨步驟簡單，設備投入成本少；通過酸性溶液對激光制絨后的硅片進行濕法腐蝕，使得硅片表面的粗糙度進一步增大，使得保護膠不易脫落，具有較大的附著力。