真空鍍膜件及其制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201010560964.3 申請日 -
公開（公告）號 CN102477529B 公開（公告）日 2014-07-16
申請公布號 CN102477529B 申請公布日 2014-07-16
分類號 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張滿喜 申請（專利權(quán)）人 北京中財慧智教育科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 518109 廣東省深圳市寶安區(qū)龍華鎮(zhèn)油松第十工業(yè)區(qū)東環(huán)二路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種真空鍍膜件，包括基體及形成于基體上的顏色層，所述顏色層為Ti-O-N膜，該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標值介于50至60之間，a*坐標值介于-3至-2之間，b*坐標值介于-6至-10之間。本發(fā)明還提供一種上述真空鍍膜件的制造方法。該真空鍍膜件呈現(xiàn)出天藍色的外觀，從而豐富了真空鍍膜層的顏色。