自旋回波變異波譜鍍膜及其制備方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110303571.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN113088905A | 公開(公告)日 | 2021-07-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113088905A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-09 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 焦鑫;梁娟;張峰;吳克墀 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳力合防偽技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市惠邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人 | 滿群 |
| 地址 | 518057廣東省深圳市南山區(qū)高新南七道深圳清華大學(xué)研究院C320 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及自旋回波變異波譜鍍膜及其制備方法,包括:⑴采用磁控濺射真空鍍膜機(jī)在玻璃表面鍍鍍膜物質(zhì),在沉積過程施加56mT,26μs的磁場(chǎng)脈沖獲得自旋回波變異波譜鍍膜;⑵將自旋回波變異波譜鍍膜和鍍膜物質(zhì)分別用X射線衍射儀測(cè)定納米晶型結(jié)構(gòu);⑶采用按非相干接收方式工作的可變頻率的牛津脈沖自旋回波核磁共振儀進(jìn)行測(cè)量;⑷鍍膜物質(zhì)脈沖自旋回波波峰為252MHZ~352MHZ,自旋?晶格豫馳時(shí)間T1:262μS~302μS,T2:23μS~25.2μS、對(duì)應(yīng)的自旋回波變異波譜鍍膜脈沖自旋回波波峰為285MHZ~385MHZ,自旋?晶格豫馳時(shí)間T1:283μS~352μS,T2:29.2μS~45.5μS。 |





