一種高密度細(xì)晶粒易成型的W靶材的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911336274.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110983264A 公開(kāi)（公告）日 2020-04-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN110983264A 申請(qǐng)公布日 2020-04-10
分類號(hào) C23C14/34;C23C14/35;B22F3/04;B22F3/15 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 賈倩;丁照崇;李勇軍;龐欣;曲鵬;祁鈺;曹曉萌;滕海濤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 有研億金新材料（山東）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 有研億金新材料有限公司
地址 102200 北京市昌平區(qū)超前路33號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了屬于磁控濺射靶材制造技術(shù)領(lǐng)域的一種高密度細(xì)晶粒易成型的W靶材的制備方法。所述W靶材，采用冷壓的方式進(jìn)行預(yù)成型，獲得預(yù)成型W靶坯，預(yù)成型W靶坯的相對(duì)密度為60％～70％；然后將預(yù)成型的W靶坯進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)致密化，獲得致密化W靶坯，所述致密化W靶坯的相對(duì)密度為93％～96％；最后將其進(jìn)行無(wú)包套二次熱等靜壓燒結(jié)致密化，制得的W靶材的致密度>99％，平均晶粒尺寸<20μm，成品率>95％。所述W靶材易成型開(kāi)裂的概率低，成品率高，工藝簡(jiǎn)單易操作，二次熱等靜壓燒結(jié)致密化，可降低熱等靜壓過(guò)程中的燒結(jié)溫度，獲得晶粒細(xì)小的鎢靶材。