翻轉裝置和真空鍍膜設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911181284.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110760811B 公開（公告）日 2021-08-06
申請公布號 CN110760811B 申請公布日 2021-08-06
分類號 C23C14/50;C23C16/458 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金晨;楊卓;李建銀 申請（專利權）人 北京七星華創(chuàng)集成電路裝備有限公司
代理機構 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 彭瑞欣;王婷
地址 101312 北京市順義區(qū)天竺綜合保稅區(qū)竺園三街6號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種翻轉裝置和真空鍍膜設備，該翻轉裝置包括可翻轉的翻轉架、相對設置在該翻轉架上的兩個第一夾緊機構、分別與兩個第一夾緊機構連接的兩個載臺組件以及分別設置在兩個載臺組件上的兩個第二夾緊機構，其中，各載臺組件用于承載托盤；兩個第一夾緊機構用于分別向兩個載臺組件的四周邊緣處施加壓力，以將置于兩個載臺組件之間的兩個托盤夾緊；兩個第二夾緊機構用于分別向置于兩個載臺組件上的兩個托盤的指定位置施加壓力，該指定位置為與托盤上的基片相對應的位置。本發(fā)明提供的翻轉裝置，其可以避免基片在翻轉過程中表面受損或掉落，提高翻轉夾緊的可靠性和穩(wěn)定性，從而可以提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質量。