掩膜板的清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110718439.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113426752A 公開（公告）日 2021-09-24
申請公布號 CN113426752A 申請公布日 2021-09-24
分類號 B08B3/08（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;B08B3/14（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 楊卓 申請（專利權(quán)）人 北京七星華創(chuàng)集成電路裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 彭瑞欣;王婷
地址 101312北京市順義區(qū)天竺綜合保稅區(qū)竺園三街6號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請實施例提供了一種掩膜板的清洗設(shè)備。該清洗設(shè)備的槽體組件包括清洗槽及溢流槽，循環(huán)過濾組件與清洗槽及溶劑回收組件連接，用于向清洗槽供給清洗溶劑，并且能使清洗溶劑在清洗槽內(nèi)循環(huán)流動；雜質(zhì)吸附組件包括第一吸附裝置及第二吸附裝置中的至少一種，第一吸附裝置設(shè)置于清洗槽與循環(huán)過濾組件之間，用于對清洗槽流出的清洗溶劑進(jìn)行雜質(zhì)吸附；第二吸附裝置設(shè)置于溢流槽及溶劑回收組件之間，用于對溢流槽流出的清洗溶劑進(jìn)行雜質(zhì)吸附；溶劑回收組件用于回收溢流槽的清洗溶劑，并且通過循環(huán)過濾組件向清洗槽供給清洗溶劑，以及溶劑回收組件與一供給源連接，用于通過循環(huán)過濾組件向清洗槽供給清洗溶劑。本申請實施例能使掩膜板的清洗滿足指標(biāo)。