高速濺鍍裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> TW097118953 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) TWI433954B 公開(kāi)（公告）日 2014-04-11
申請(qǐng)公布號(hào) TWI433954B 申請(qǐng)公布日 2014-04-11
分類(lèi)號(hào) C23C14/35;C23C14/34 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丹尼斯　赫拉斯 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 金江水力發(fā)電集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 陳長(zhǎng)文 代理人 漢能控股集團(tuán)有限公司
地址 中國(guó)大陸 CN
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種濺鍍方法，其包括使一靶支撐體之一表面曝露於一靶材料流，使得該曝露導(dǎo)致在處?kù)兑坏谝晃恢弥摪兄误w之該表面上凝結(jié)該靶材料，并從處?kù)兑坏诙恢弥摪兄误w之該表面將該經(jīng)凝結(jié)的靶材料濺鍍至一基板，其中在該濺鍍期間，處?kù)对摰诙恢弥摪兄误w之該表面未曝露於該經(jīng)蒸發(fā)的靶材料流。本發(fā)明亦提供一種濺鍍靶單元。該濺鍍方法及該濺鍍靶單元能夠執(zhí)行不良熱導(dǎo)體之高速濺鍍。