流體控制系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201721921214.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN207750743U | 公開（公告）日 | 2018-08-21 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN207750743U | 申請(qǐng)公布日 | 2018-08-21 |
| 分類號(hào) | F17D1/04;F17D3/01 | 分類 | 氣體或液體的貯存或分配; |
| 發(fā)明人 | 彭日宇;何傳奇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 成都士蘭半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京博訊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 成都士蘭半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 地址 | 610404 四川省成都市成都金堂縣淮口鎮(zhèn)成-阿工業(yè)園士芯路9號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及流體控制系統(tǒng)。在一方面中，公開了一種用于半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的流體控制系統(tǒng)。所述半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備包括爐本體，所述爐本體包括適于在其中生成半導(dǎo)體層的反應(yīng)腔室和適于在其中容納旋轉(zhuǎn)傳動(dòng)部件的旋轉(zhuǎn)腔室，所述流體控制系統(tǒng)包括適于將工藝流體供應(yīng)至所述反應(yīng)腔室以生成所述半導(dǎo)體層的第一流體管路部分。所述流體控制系統(tǒng)還包括適于將保護(hù)流體供應(yīng)至所述旋轉(zhuǎn)腔室以保護(hù)所述旋轉(zhuǎn)傳動(dòng)部件的第二流體管路部分。根據(jù)本實(shí)用新型，能夠使旋轉(zhuǎn)軸不容易腐蝕，延長(zhǎng)了旋轉(zhuǎn)軸的使用壽命，節(jié)約了設(shè)備維護(hù)成本。 |
