一種二維光柵及其形成方法、光波導及近眼顯示設備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210214447.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114527537A | 公開(公告)日 | 2022-05-24 |
| 申請公布號 | CN114527537A | 申請公布日 | 2022-05-24 |
| 分類號 | G02B6/124(2006.01)I;G02B6/136(2006.01)I;G02B27/01(2006.01)I | 分類 | 光學; |
| 發(fā)明人 | 郭曉明;宋強;黃浩;馬國斌 | 申請(專利權)人 | 深圳瓏璟光電科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市六加知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 518000廣東省深圳市深汕特別合作區(qū)鵝埠鎮(zhèn)深汕特別合作區(qū)時尚品牌產(chǎn)業(yè)園項目內(nèi)自編6#樓9層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明實施例涉及光學器件領域,公開了一種二維光柵及其形成方法、光波導及近眼顯示設備,該二維光柵包括凸設或凹設于波導片表面的若干個形狀相同的條帶狀結(jié)構(gòu),所述條帶狀結(jié)構(gòu)由重復單元沿一個方向復制延伸形成,各所述條帶狀結(jié)構(gòu)相同且等距設置,所述條帶狀結(jié)構(gòu)由第一邊界線和第二邊界線限定而成,所述第一邊界線和所述第二邊界線為不同的多次曲線。該二維光柵可以根據(jù)光線耦出效率的需求在光波導上刻蝕形成,能夠在不增加加工難度的前提下,提高衍射光波導中的二維光柵的調(diào)節(jié)自由度,可以更好的控制耦出效率分布,實現(xiàn)更好的出瞳均勻性和視場均勻性。 |





