晶體管終端結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201911140881.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111129108A | 公開(公告)日 | 2020-05-08 |
| 申請公布號 | CN111129108A | 申請公布日 | 2020-05-08 |
| 分類號 | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 張曌;李杰;魏國棟;田甜;劉瑋 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳深愛半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 深圳深愛半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 地址 | 518172 廣東省深圳市龍崗區(qū)寶龍工業(yè)城寶龍七路3號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種晶體管終端結(jié)構(gòu)及其制造方法,所述終端結(jié)構(gòu)在平面上環(huán)狀包圍晶體管的有源區(qū),所述終端結(jié)構(gòu)包括襯底、襯底上的截止環(huán)和襯底上的多個(gè)分壓環(huán),各分壓環(huán)設(shè)于截止環(huán)與有源區(qū)和終端結(jié)構(gòu)的分界處的主結(jié)之間;其特征在于,還包括多個(gè)溝槽多晶硅場板,分布于最靠近所述主結(jié)的一分壓環(huán)與所述截止環(huán)之間的襯底中,每兩個(gè)相鄰的分壓環(huán)之間設(shè)置的溝槽多晶硅場板不超過一個(gè)。本發(fā)明通過溝槽多晶硅場板取代傳統(tǒng)的水平多晶硅場板方案,能夠在保證與傳統(tǒng)方案有同樣耐壓的前提下縮小了分壓環(huán)間距,從而能夠縮短終端結(jié)構(gòu)整體尺寸,體現(xiàn)了較好的終端性價(jià)比和經(jīng)濟(jì)性。 |





