一種基于圖像篡改定位模型的圖像處理方法及終端
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111382896.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114078156A | 公開(公告)日 | 2022-02-22 |
| 申請公布號 | CN114078156A | 申請公布日 | 2022-02-22 |
| 分類號 | G06T7/70(2017.01)I;G06T7/11(2017.01)I;G06N3/04(2006.01)I;G06K9/62(2022.01)I;G06V10/82(2022.01)I;G06V10/26(2022.01)I | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
| 發(fā)明人 | 陳保營;譚舜泉;楊銳;劉永亮;李斌;黃繼武 | 申請(專利權(quán))人 | 淘寶(中國)軟件有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 朱陽波;陳專 |
| 地址 | 518060廣東省深圳市南山區(qū)南海大道3688號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于圖像篡改定位模型的圖像處理方法及終端,所述圖像篡改定位模型包括:預處理卷積層、雙卷積特征提取層、四個下采樣卷積模塊、四個上采樣卷積模塊和輸出卷積層;所述圖像處理方法包括:將篡改圖像輸入到所述圖像篡改定位模型,通過DCT?Layer預處理卷積層或者SRM?Layer預處理卷積層提取所述篡改圖像的手工特征;將所述手工特征輸入到雙卷積特征提取層以得到深度特征;將所述深度特征輸入到四個下采樣卷積模塊和四個上采樣卷積模塊分別進行下采樣和上采樣;將經(jīng)過上采樣得到的特征輸入到輸出卷積層,通過輸出卷積層輸出最終預測的掩碼圖,所述掩碼圖用于預測所述篡改圖像的篡改區(qū)域。本發(fā)明實現(xiàn)了無需借助大規(guī)模篡改數(shù)據(jù)集預訓練下更好的性能。 |





