雙端磁控濺射離子鍍膜機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN94237225.5 申請日 -
公開（公告）號 CN2186249Y 公開（公告）日 1994-12-28
申請公布號 CN2186249Y 申請公布日 1994-12-28
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭傳才;魏敏;胡云慧;田雨時;劉重光;金昭廷;黃廣連 申請（專利權(quán)）人 長沙國防科技大學八達薄膜電子技術(shù)研究所
代理機構(gòu) 湖南省專利服務中心 代理人 長沙國防科技大學八達薄膜電子技術(shù)研究所
地址 410073湖南省長沙市國防科技大學四系
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及的是一種雙端磁控濺射離子鍍膜機，由真空室和傳輸機構(gòu)組成。其中真空室包括前、后鎖室、濺射區(qū)、隔離區(qū)和壓差室，真空室內(nèi)設(shè)置有加熱裝置和濺射靶、偏壓裝置，在前鎖室上開有入口，后鎖室上開有出口，在真空室壁上設(shè)有穿越口。本實用新型具有長度尺寸小，從而投資小，生產(chǎn)節(jié)拍快，具有多種功能，既可以鍍熱反射玻璃，也可以鍍低輻射玻璃，還可以在瓷磚、鋼板上鍍膜以及在有一定曲面的板上鍍膜，且膜的附著力，膜厚的均勻性都明顯改善，從而大大提高產(chǎn)品的質(zhì)量。