用于金屬絲二次質(zhì)譜深度分析的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011598459.8 申請日 -
公開（公告）號 CN112345623A 公開（公告）日 2021-02-09
申請公布號 CN112345623A 申請公布日 2021-02-09
分類號 G01N27/64 分類 測量；測試;
發(fā)明人 朱雷;華佑南;李曉旻 申請（專利權(quán)）人 勝科納米（蘇州）股份有限公司
代理機構(gòu) 北京崇智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙麗娜
地址 215000 江蘇省蘇州市中國(江蘇)自由貿(mào)易試驗區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)09棟507室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及材料樣品檢測技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及用于金屬絲二次質(zhì)譜深度分析的方法，包括以下步驟：準備基板，所述基板沿其長度刻蝕有與所述金屬絲相適的凹槽；沿所述凹槽的長度將所述金屬絲放入所述凹槽內(nèi)，并將所述金屬絲在所述凹槽內(nèi)固定；所述基板放置在二次離子質(zhì)譜儀樣品臺進行測試；所述金屬絲的直徑為微米級。本發(fā)明通過在基板上設(shè)置凹槽，以便輔助金屬絲和質(zhì)譜儀探頭之間形成類平面結(jié)構(gòu)，這樣再進行二次離子質(zhì)譜儀檢測，得到的圖譜中主元素層清晰分出，也同時最大減低界面混合效應(yīng)。