一種等離子體清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201010165134.0 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN101837357B 公開（公告）日 2011-10-05
申請公布號(hào) CN101837357B 申請公布日 2011-10-05
分類號(hào) B08B7/00(2006.01)I 分類 清潔;
發(fā)明人 周駿;林豪;仰明陽;顏飛彪 申請（專利權(quán)）人 浙江堯瑤科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 寧波奧圣專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 程曉明
地址 315000 浙江省寧波市院士路66號(hào)創(chuàng)業(yè)大廈4-21-1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種等離子體清洗裝置，其主要由微波系統(tǒng)和反應(yīng)裝置組成，微波系統(tǒng)包括微波室、微波源及微波控制電路，通過微波控制電路可對微波源進(jìn)行調(diào)控，實(shí)現(xiàn)對產(chǎn)生的等離子體密度的調(diào)控；本清洗裝置通過采用微波激勵(lì)的方式，有效地避免了電極污染，同時(shí)擴(kuò)大了壓強(qiáng)工作范圍；由于微波技術(shù)比較成熟，微波泄漏較易控制與防護(hù)，因此本清洗裝置具有較好的安全性能；通過調(diào)控清洗反應(yīng)氣體的流速或真空裝置的抽氣速度來控制工作壓強(qiáng)，通過微波控制電路來控制微波源的功率，可以有效地調(diào)節(jié)等離子體對清洗樣品的表面的轟擊力度和等離子體的濃度，從而可根據(jù)不同材料類型的清洗樣品進(jìn)行不同方式的清洗及表面改性。