一種基于拼接原子光刻技術(shù)的大面積自溯源光柵制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210284007.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114690298A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114690298A 申請公布日 2022-07-01
分類號 G02B5/18（2006.01）I;G03F7/20（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 程鑫彬;鄧曉;譚文;肖光旭;唐朝輝;林子超;李同保 申請（專利權(quán)）人 同濟(jì)大學(xué)
代理機(jī)構(gòu) 上?？剖⒅R產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 200092上海市楊浦區(qū)四平路1239號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種基于拼接原子光刻技術(shù)的大面積自溯源光柵制備方法，包括以下步驟：基于原子光刻技術(shù)在基板上進(jìn)行一次原子光刻，獲得原子光刻光柵樣板；至少循環(huán)執(zhí)行一次以下操作：利用光闌的限位作用，保持會聚光指向不變，將主透鏡及當(dāng)前的原子光刻光柵樣板作為整體沿激光駐波場方向平移一段距離并固定，調(diào)整主透鏡使返回的會聚光形成駐波場并與金屬原子束待沉積區(qū)域存在重疊部分，在當(dāng)前的原子光刻光柵樣板上進(jìn)行一次原子光刻；通過相鄰次原子光刻光柵的無縫拼接，獲得大面積自溯源光柵。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有效地解決了自溯源光柵駐波場方向擴(kuò)展的技術(shù)問題，并具備光柵無縫銜接，擴(kuò)展空間大的優(yōu)點(diǎn)。