石墨熱場的熱屏與氣體導(dǎo)流裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200920142768.7 申請日 -
公開（公告）號 CN201567388U 公開（公告）日 2010-09-01
申請公布號 CN201567388U 申請公布日 2010-09-01
分類號 C30B15/14(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 馬四海;張笑天 申請（專利權(quán)）人 蕪湖升陽光電科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 241100 安徽省蕪湖縣蕪湖機械工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種石墨熱場的熱屏與氣體導(dǎo)流裝置，所述的石墨熱場的熱屏與氣體導(dǎo)流裝置上設(shè)熱屏外層(3)和熱屏內(nèi)層(1)，所述的熱屏外層(3)與熱屏內(nèi)層(1)之間設(shè)有間隙。采用上述技術(shù)方案，采用斜面反射角度，使得熱輻射的反射率增加；增加了熱屏中下部熱屏外層與內(nèi)層的間隙，得以填充石墨碳?xì)?，增加熱屏的絕熱效果。由20寸傳統(tǒng)熱封閉式場維持1420°的拉制條件需要每小時耗費70～75kw·h降低至60～65kw·h，節(jié)能超過10％；填充2～3層石墨碳?xì)衷黾恿烁魺嵝阅?，改變了單晶生長時，晶體的縱向溫度梯度，相對傳統(tǒng)封閉式熱場，拉速增加0.05mm/min。提高了設(shè)備生產(chǎn)產(chǎn)能，降低生產(chǎn)成本。