一種真空懸浮鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110834251.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113403610A 公開（公告）日 2021-09-17
申請公布號 CN113403610A 申請公布日 2021-09-17
分類號 C23C16/455（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李翔;左敏;胡磊;王榮;趙昂璧;李登輝;黎微明 申請（專利權(quán)）人 江蘇微導納米科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 孔祥貴
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)新碩路9-6-2
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種真空懸浮鍍膜設(shè)備，包括外殼、安裝于外殼內(nèi)部的內(nèi)殼以及放置于內(nèi)殼內(nèi)部的工件載具，內(nèi)殼的封閉端設(shè)置有連接抽氣系統(tǒng)的抽氣接口，內(nèi)殼的開放端設(shè)置有用于工件載具進出的開口，外殼的開放端設(shè)置有密封門，密封門內(nèi)側(cè)安裝有蓋板，蓋板內(nèi)側(cè)安裝有勻流板總成，密封門關(guān)閉時蓋板封閉開口，勻流板總成由開口伸入內(nèi)殼，蓋板和勻流板總成之間設(shè)置有空間間隔，勻流板總成上設(shè)置有連通空間間隔和內(nèi)殼內(nèi)部空間的氣孔，通過多個工藝氣體通道連通空間間隔，用于將多種類型的氣體輸送至空間間隔。使工藝氣體成分流動更為均勻，腔體內(nèi)部的流道短，可以有效防止MO源的凝結(jié)，進而設(shè)備可以使用的工藝腔體尺寸更大，提升設(shè)備可靠性和適用性。