一種空間分布光學(xué)測量裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020532220.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211783857U | 公開（公告）日 | 2020-10-27 |
| 申請公布號 | CN211783857U | 申請公布日 | 2020-10-27 |
| 分類號 | G01J1/42(2006.01)I;G01J1/02(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 潘建根;李倩;沈思月 | 申請（專利權(quán)）人 | 遠(yuǎn)方譜色科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 311200浙江省杭州市蕭山區(qū)蕭山經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)紅墾農(nóng)場墾輝六路739號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開一種空間分布光學(xué)測量裝置，包括外罩，樣品臺，待測發(fā)光源以及成像測量裝置，其中所述外罩的內(nèi)表面設(shè)有漫反射涂層；所述待測發(fā)光源設(shè)置在所述樣品臺上；所述成像測量裝置的視場覆蓋所述待測發(fā)光源投射到所述外罩內(nèi)表面的像。本實(shí)用新型通過設(shè)置內(nèi)表面設(shè)有漫反射涂層的外罩，去接收待測發(fā)光源的光斑，然通過成像測量裝置直接對光斑在外罩內(nèi)表面的像進(jìn)行拍攝，避免使用勻光膜，防止橫向散射對測量結(jié)果的影響，從而到達(dá)較少測量誤差提高測量精度的技術(shù)效果。?? |
