一種涂膠機
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202120564247.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214151371U | 公開(公告)日 | 2021-09-07 |
| 申請公布號 | CN214151371U | 申請公布日 | 2021-09-07 |
| 分類號 | G03F7/16(2006.01)I | 分類 | 攝影術;電影術;利用了光波以外其他波的類似技術;電記錄術;全息攝影術〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 曹永茂;王吉剛;陳文卓;冷正超 | 申請(專利權)人 | 山東華菱電子股份有限公司 |
| 代理機構 | 威??菩菍@聞账?/td> | 代理人 | 初姣姣 |
| 地址 | 264200山東省威海市高技術產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)火炬路159號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及涂膠設備技術領域,具體的說是一種特別適用于半導體電路圖像化處理工藝中薄片基板用的涂膠機,其特征在于,支撐輥由第一支撐組件承托,涂膠輥由第二支撐組件承托,所述第一支撐組件中包括對稱設置在工作臺上的左側立板、右側立板,以及固定于左側立板和右側立板頂部的支撐橫梁;第二支撐組件包括第二左立板和第二右立板,其中第二左立板與第二右立板的上端分別經(jīng)高度調(diào)節(jié)螺桿與支撐橫梁相連;支撐輥由支撐電動機驅動,涂膠輥由涂膠電動機驅動,支撐輥與涂膠輥轉動方向相反,本實用新型在基板表面涂布的光刻膠膠厚均勻,且涂膠過程中涂膠輥與支撐輥表面不接觸,避免光刻膠污染,極大地改善涂膠產(chǎn)品品質。 |





