一種絕緣柵雙極晶體管終端
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022416606.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN213150781U | 公開(公告)日 | 2021-05-07 |
| 申請公布號 | CN213150781U | 申請公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號 | H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 尹江龍;章劍鋒;向軍利 | 申請(專利權(quán))人 | 瑞能半導(dǎo)體科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 趙秀芹 |
| 地址 | 330052江西省南昌市南昌縣小藍(lán)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)小藍(lán)中大道346號16棟北面一樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請公開了一種絕緣柵雙極晶體管終端。該絕緣柵雙極晶體管終端包括:第一導(dǎo)電類型的襯底;位于所述襯底靠近第一表面?zhèn)鹊闹鹘Y(jié)、浮動環(huán)、溝道截斷環(huán)、氧化層;以及與所述第一表面相對的場截止層;所述浮動環(huán)設(shè)置在所述主結(jié)和所述溝道截斷環(huán)之間;所述浮動環(huán)與所述主結(jié)的間距為預(yù)設(shè)間距,所述預(yù)設(shè)間距用于使所述絕緣柵雙極晶體管的擊穿位置在所述浮動環(huán)上。采用本申請?zhí)峁┑慕^緣柵雙極晶體管終端,可以使得在測試FS?IGBT的擊穿電壓時,擊穿電流的擊穿位置位于浮動環(huán)上,從而可以避免由于snap?back現(xiàn)象導(dǎo)致的測試失敗的情況,可以有效提高測試效率。?? |





