具有改進(jìn)的腔體的單晶壓電射頻諧振器和濾波器
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810641112.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN108923766B | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-02-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108923766B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-22 |
| 分類(lèi)號(hào) | H03H9/205(2006.01)I;H03H9/48(2006.01)I;H03H9/52(2006.01)I;H03H9/56(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電子電路; |
| 發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 珠海晶訊聚震科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 俞梁清 |
| 地址 | 519000廣東省珠海市高新區(qū)南方軟件園Bee+ | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種FBAR濾波器裝置,包括一個(gè)諧振器陣列,每個(gè)諧振器包括夾在第一和第二電極之間的單晶壓電薄膜,其中第一電極由空氣腔體上的支撐薄膜支撐,所述空氣腔體被嵌入硅蓋上的二氧化硅層中,所述空氣腔體具有穿過(guò)硅蓋并進(jìn)入空氣腔體中的硅通孔,所述二氧化硅層中的空氣腔體的側(cè)壁被由能抵抗二氧化硅蝕刻劑的材料形成的屏障所限定,其中支撐薄膜與第一電極之間的界面是光滑和平坦的。 |





