一種非接觸式光刻機調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)、方法和光刻機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310716930.2 申請日 -
公開（公告）號 CN103631098B 公開（公告）日 2016-08-17
申請公布號 CN103631098B 申請公布日 2016-08-17
分類號 G03F7/207(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 楊若夫;敖明武 申請（專利權）人 成都頻泰醫(yī)療設備有限公司
代理機構 四川力久律師事務所 代理人 成都虹博宇光電科技有限公司;成都頻泰醫(yī)療設備有限公司
地址 610000 四川省成都市武侯區(qū)盛隆街7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種非接觸式光刻機調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)，包括至少三個光譜共焦位移傳感器，用于采集光刻機的掩膜版下表面與位于光刻機上的樣片表面的光刻膠層的上表面之間的間隙距離數(shù)據(jù)；信號處理電路，用于根據(jù)所述光譜共焦位移傳感器采集的所述間隙距離數(shù)據(jù)計算處理，輸出控制信號到光刻機的承片機構和升降機構，實現(xiàn)對樣片的調(diào)平與調(diào)焦控制，使樣片表面的光刻膠層的上表面與所述掩膜版的下表面之間的間隙距離保持在預定工作距離內(nèi)。本發(fā)明同時公開了非接觸式光刻機調(diào)平調(diào)焦方法以及具有所述調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)的光刻機。本發(fā)明取代了現(xiàn)有非接觸式調(diào)焦調(diào)平裝置中復雜的光學結構部件，降低了復雜性，容易實現(xiàn)。