一種量子點及其合成方法與應(yīng)用
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201811017169.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN108929691B | 公開(公告)日 | 2021-09-07 |
| 申請公布號 | CN108929691B | 申請公布日 | 2021-09-07 |
| 分類號 | C09K11/88;C09K11/02;B82Y20/00;B82Y40/00 | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 張超;李霞;張孟 | 申請(專利權(quán))人 | 嘉興納鼎光電科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 南京利豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王鋒 |
| 地址 | 315000 浙江省寧波市寧??h橋頭胡街道鳳山路218號(資助申報) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種量子點及其合成方法。所述量子點具有核殼結(jié)構(gòu),其中的核包括III?V族量子點,所述III?V族量子點上依次包覆有In2S3過渡層和ZnS殼層。所述量子點的合成方法,包括:提供作為核的III?V族量子點;于所述III?V族量子點上依次包覆In2S3過渡層和ZnS殼層。本發(fā)明通過在量子點核的包覆殼層中加入硫化銦(In2S3)過渡層,提高了殼層晶格常數(shù)與帶寬的匹配度,提高了與量子點核層的能級匹配度,使得量子點結(jié)構(gòu)更加致密,從而提高了量子點的量子效率,提高了其光學(xué)性能和穩(wěn)定性,降低了半峰寬。 |





