一種超材料單元、超表面、電磁設(shè)備及編碼方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011217615.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112332103B | 公開（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112332103B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
| 分類號(hào) | H01Q15/00（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 王啟東;萬偉康 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京知迪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 100029北京市朝陽(yáng)區(qū)北土城西路3號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種超材料單元、超表面、電磁設(shè)備及編碼方法，涉及超表面技術(shù)領(lǐng)域，用以簡(jiǎn)化可重構(gòu)超表面所包括的超材料單元的結(jié)構(gòu)，降低制作難度。該超材料單元包括反射部以及其下方的第一介質(zhì)部、上方的第二介質(zhì)部，第一介質(zhì)部朝向反射部的表面開設(shè)容納第一工作流體的儲(chǔ)液槽；第二介質(zhì)部遠(yuǎn)離反射部的表面開設(shè)容納第二工作流體的電解液槽，電解液槽與儲(chǔ)液槽連通。超材料單元處于非填充狀態(tài)，第二工作流體為電解液；當(dāng)施加在儲(chǔ)液槽內(nèi)電解液的電壓高于施加在電解液槽內(nèi)電解液的電壓時(shí)，超材料單元處于填充狀態(tài)，第二工作流體至少包括液態(tài)金屬。本發(fā)明提供的超材料單元、超表面、電磁設(shè)備及編碼方法用于超表面的制作及編碼。 |
